中国电子科技集团公司第四十九研究所科研楼
建筑规模:24938.90㎡
建设地点:哈尔滨
获奖情况:获2018年黑龙江省优秀工程设计一等奖
简介:

       本项目为中国电子科技集团公司第四十九研究所科研楼,项目位于中国电子科技集团公司第四十九研究所电子产品研发生产基地内?;匚挥诠跏兴杀鼻?,西西宁路、拉萨路及规划路所围合的区域内,西侧与欧美亚软件开发区相邻。

       中国电子科技集团公司第四十九研究所是一所专门从事电子敏感技术研究、敏感元器件与传感器研发的专业研究单位。

科研楼总建筑面积:24938.90㎡(包括地下层建筑面积),占地面积11514.98平方米,建筑层数地上12层,地下1层,建筑高度49.70米。

       建筑功能:包括设备用房、戊类库房、办公用房、产品展示中心、研发中心、行政办公用房、机房技改处、审计、人事、机要、财务核算中心、多功能会议室及预留研发用房等。


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